Máscara fotográfica

Una máscara fotográfica es una placa opaca, con áreas transparentes que permiten que la luz se transmita en un patrón determinado.

Utilización[editar]

Las fotomáscaras se utilizan comúnmente en fotolitografía^[1], para la producción de circuitos integrados. Un conjunto de fotomáscaras, definiendo cada una de ellas una capa patrón, se introduce en un paso a paso de fotolitografía (o escáner), y se selecciona individualmente para la exposición.^[2] En las técnicas de modelado dobles, una fotomáscara correspondería a un subconjunto del patrón de capa.^[3]

Véase también[editar]

Referencias[editar]

↑ Benjamin Eynon; Banqiu Wu (21 de julio de 2005). Photomask Fabrication Technology. McGraw Hill Professional. ISBN 978-0-07-158891-1.
↑ Rizvi, Syed (2005). «1.3 The Technology History of Masks». Handbook of Photomask Manufacturing Technology. CRC Press. p. 728. ISBN 9781420028782.
↑ Lithography experts back higher magnification in photomasks to ease challenges // EETimes 2000

Enlaces externos[editar]

Datos: Q1319657

[EynonWu2005-1] Benjamin Eynon; Banqiu Wu (21 de julio de 2005). Photomask Fabrication Technology. McGraw Hill Professional. ISBN 978-0-07-158891-1.

[2] Rizvi, Syed (2005). «1.3 The Technology History of Masks». Handbook of Photomask Manufacturing Technology. CRC Press. p. 728. ISBN 9781420028782.

[3] Lithography experts back higher magnification in photomasks to ease challenges // EETimes 2000

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